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薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 蒸發(fā)鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD

HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭，可適用的靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環(huán)形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。

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更新日期：2025-02-10

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500W直流濺射電源--DC-500-LD

500W直流濺射電源--DC-500-LD

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1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提高鍍膜質(zhì)量。

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高真空腔體--HVC-SS

本公司提供高真空腔體，客戶可自行為一些實(shí)驗(yàn)搭建真空系統(tǒng)，如等離子濺射，CVD或ALD等實(shí)驗(yàn)，同時(shí)也可作為高真空儲(chǔ)存箱。

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100W小型RF（射頻）電源（采用手動(dòng)匹配）--RF-100-LD

RF-100-LD是一款小型手動(dòng)匹配100WRF（射頻）電源，頻率為13.56MHz.此設(shè)備設(shè)計(jì)專門(mén)與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用，可搭建起一套比較廉價(jià)的濺射鍍膜系統(tǒng)，用于制作非導(dǎo)電薄膜。

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