300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

簡要描述：VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。

產品型號：
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-02-10
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薄膜制備全套設備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設備旋轉涂層設備（勻膠機）流延涂覆機蒸發(fā)鍍膜設備磁控濺射鍍膜設備等離子鍍膜設備熱噴涂鍍膜設備/靜電紡絲鍍膜設備濺射源及真空腔體查看全部產品

詳細介紹

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。
我們用此設備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜

技術參數(shù)

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	一個300W，13.5MHz的射頻電源安裝在移動柜內 (點擊圖片查看詳細資料）
磁控濺射頭	一個 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度6.35mm 一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作，見圖左3）濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機）同時可選配1英寸濺射頭
真空腔體	真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈密封一個不銹鋼網(wǎng)罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵） 10-5 torr （采渦旋分子泵）
載樣臺	載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）并可加熱載樣臺尺寸：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋轉速度：1 - 20 rpm 樣品的zui高加熱溫度為700℃，(短期使用，恒溫不超過1小時)，長期使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵	可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統(tǒng)
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)控薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)
外形尺寸
質保和質量認證	一年質保期，終生維護 CE認證
使用注意事項	這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗，可有效減少真空腔體中的氧含量請用純度大于5N的Ar來進行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后，再導入到真空腔體內