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簡要描述:OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設(shè)備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成??膳c準(zhǔn)分子激光器配合,進(jìn)行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進(jìn)行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。
產(chǎn)品分類
詳細(xì)介紹
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設(shè)備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成??膳c準(zhǔn)分子激光器配合,進(jìn)行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進(jìn)行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品特點(diǎn) |
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加熱爐(對基片加熱) |
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腔體 |
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真空度 |
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窗口
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壓力控制系統(tǒng) |
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混氣系統(tǒng) |
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等離子射頻電源(可選購) |
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質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)(不包括密封圈、石英腔體和加熱元件) |
儀器尺寸 | 1300mm*1260mm*820mm |
質(zhì)量認(rèn)證 |
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