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多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐

簡要描述:OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設(shè)備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成??膳c準(zhǔn)分子激光器配合,進(jìn)行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進(jìn)行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。

  • 產(chǎn)品型號:OTF-1200X-PLD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-10-22
  • 訪  問  量:2784

詳細(xì)介紹

 OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設(shè)備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成??膳c準(zhǔn)分子激光器配合,進(jìn)行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進(jìn)行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。

 

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 可與準(zhǔn)分子激光器配合進(jìn)行PLD制膜
  • 腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材,進(jìn)行多靶激光蒸發(fā)
  • 腔體內(nèi)部靶材可旋轉(zhuǎn)
  • 可對基片加熱(zui高溫度可達(dá)1200℃)

加熱爐(對基片加熱)

  • 雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),使殼體表面溫度小于60℃
  • 加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金(表面涂有氧化鋯涂層)
  • zui高工作溫度:1200℃
  • zui大功率:1.2KW

腔體

  • 基片加熱腔體為高純石英材料
  • 靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料
  • 靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,并且靶材可旋轉(zhuǎn)(轉(zhuǎn)速:0-30rmp)
  • 兩個(gè)腔體通過卡箍式法蘭連接(可點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)
  •  

真空度

  • 10-2Torr(采用機(jī)械泵)
  • 10-5Torr(采用渦旋分子泵)
  • 可在本公司購買各種真空泵

窗口

 

  • 采用藍(lán)寶石(Al2O3)
  • 尺寸:Φ25*0.5mm
  • 允許激光的入射角度為30°-90°
  •   
壓力控制系統(tǒng)
  • 一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上,可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定
  • 與混氣系統(tǒng)配合使用,可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定
  •   

混氣系統(tǒng)

  • 配有2路質(zhì)量流量計(jì)混合系統(tǒng)
  • 混氣罐尺寸:Φ80X120mm
  • zui大氣壓:3×106Pa
  • 精度:±1%FS
  • 質(zhì)量流量計(jì)量程:1:1-199sccm
                   2:1-499sccm
  • 可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計(jì)
  • 可選購3-5路混氣系統(tǒng)

等離子射頻電源(可選購)

  • 可在設(shè)備上安裝300W等離子射頻電源,使腔體內(nèi)的氣體等離子化,達(dá)到等離子化激光蒸發(fā)反應(yīng)鍍膜
  •  

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期,終生維護(hù)(不包括密封圈、石英腔體和加熱元件)

儀器尺寸

1300mm*1260mm*820mm

質(zhì)量認(rèn)證

  • CE質(zhì)量認(rèn)證
  • 所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA認(rèn)證
  • 若客戶出認(rèn)證費(fèi)用,本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
         

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