熱噴涂鍍膜設備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。

　　靶材的大尺寸和高利用率是涂層領域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢。

　　1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉末材料，可根據(jù)工件表面性能要求制備各種性能的涂層；

　　2、結果表明，高速等離子射流可使粉末獲得更大的動能和更高的溫度，涂層與基體的結合強度高；

　　3、為近凈形制備方法，可節(jié)省材料，特別適用于貴金屬涂層和靶材的制備；

　　4、通過真空密封、還原氣體和惰性氣體保護，可獲得含氧量低、雜質少的涂層；

　　5、采用高能等離子噴涂設備，粉末沉積速率高，沉積速率快??，可獲得厚涂層，是制備濺射靶材的重要保證。

　　以熱噴涂管靶材為例，靶材微觀結構為圓餅狀扁平細晶粒，晶粒取向平行于旋轉軸方向。靶材中存在大量微米級孔洞，靶材整體孔隙率在5%~15%之間。多孔結構易吸附雜質和水分，影響濺射過程中高真空的快速獲得和真空度的穩(wěn)定性，濺射過程中靶材濺射表面的高溫使顆粒松散滴，污染基材表面，影響涂層質量和涂層產(chǎn)品的合格率。

　　目前，熱噴涂鍍膜設備激光熔覆是解決等離子濺射靶材密度差問題的主要方法。當然，隨著新型噴涂設備的引進，涂層的致密性也越來越好。另外，如果在大氣環(huán)境中噴涂靶材，靶材表面與空氣中的O2、N2等氣體接觸時會產(chǎn)生大量的氧化物和氮化物雜質。即使是真空等離子噴涂技術也不能*避免合金靶材中氧化物和氮化物的產(chǎn)生。因此，濺射靶材表面的吸附氣體必須在濺射前通過隔離的前級泵去除。